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【高精尖清洗技術(shù)】硅片清洗----FAS-1*除垢表面活性劑
點(diǎn)擊:發(fā)布日期:2025/4/28

硅片在經(jīng)過(guò)切割之后,其表面會(huì)吸附金屬粒子、硅粉粉塵及有機(jī)雜質(zhì)等,對(duì)其清洗效果的好壞,不僅影響硅片的外觀質(zhì)量,更重要的是會(huì)影響后續(xù)工序的加工,如擴(kuò)散、制絨等。

 

硅片清洗用的清洗劑一般為雙組份產(chǎn)品,A劑主要由強(qiáng)堿、助洗劑組成,?提供強(qiáng)堿性環(huán)境,溶解硅粉及有機(jī)污染物。B劑主要由表面活性劑組成成,與堿性成分協(xié)同增效,去除表面的硅粉等污垢。

 

堿提高到一定程度對(duì)清洗效果的提升幫助不大,想要提高對(duì)硅粉等顆粒物的清洗效果,需要從表面活性劑入手。邦普化學(xué)的陰離子表面活性劑FAS-1,是一款泡沫低、除灰去污效果*的表面活性劑,對(duì)硅片表面的硅粉等顆粒污垢的清洗效果尤為突出。經(jīng)實(shí)驗(yàn)測(cè)試,相同條件下,添加FAS-1復(fù)配體系,清洗效果要遠(yuǎn)高于同活性的其他清洗體系。實(shí)驗(yàn)結(jié)果說(shuō)明了FAS-1對(duì)于硅粉的清洗能力強(qiáng),能大幅提升體系對(duì)硅粉清除與分散能力,加速垢剝離。

 

 

1.硅片清洗效果測(cè)試?

 

綜上所述,硅片清洗劑中的各組分相互協(xié)作,共同起到去除硅片表面污染物,FAS-1正是清洗用料中的佼佼者,非常適合用于硅片切割后的硅粉清洗,提高體系的清洗效果。

 

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